UL1000Fab干式氦質譜檢漏儀  的詳細介紹

NFICON UL1000 Fab干式氦質譜檢漏儀特別設計用于滿足半導體應用要求。憑借環(huán)境系統(tǒng)優(yōu)先級中的簡單使用性、檢漏效率性和移動性，UL1000 Fab干式氦質譜檢漏儀在所有測量范圍中提供極快的泄漏率響應。

通過結合較高氦氣吸氣能力和高進氣口壓力的*真空結構，UL1000 Fab干式氦質譜檢漏儀提供的*的泄漏率低達 < 5x10-12 atm cc/s。軟件 I-CAL（智能泄漏率計算法）讓您忘記在低泄漏率范圍檢漏時較長反應時間的煩惱，因為 UL1000 Fab 能夠對所有泄漏率范圍做出快速響應。

使用額外的 TC1000 測試盒配件，UL1000 Fab 氦氣檢漏儀為密封部件提供簡單、快速、精確的測試，如 IC 封裝、石英晶體和激光器二極管（根據(jù) MIL-STD 843，方法 1014）。

功能

• 15 級的寬測量范圍

• 較短的抽氣和響應時間

• 移動式全金屬外殼，增加了便利性，具有可操作性

• I-CAL 確保了在所有測量范圍中提供zui快的泄漏響應時間

• 抑零功能和自動積分時間校正，可提供快速、可靠的測試結果

• 含堅固耐用渦旋泵和多入口渦輪分子泵的智能型真空設計，提供較高氦氣吸氣能力和高壓縮比

• 旋轉式顯示器和用戶界面允許簡單、輕松控制裝置以及與其進行交互

• 自保護功能可防止 UL1000 Fab 氦氣檢漏儀受到氦氣和微粒的污染

• 自動吹掃循環(huán)可確保清理并隨時可進行測試

• 通過電子郵件進行軟件更新

• 含兩個燈絲離子源（3 年質保）的耐用質譜系統(tǒng)確保了較長的運行時間和較低的維護成本

• 內(nèi)部校準用的內(nèi)置測試漏孔確保了精確的測試結果

典型應用

• 對半導體加工工具執(zhí)行維護作業(yè)，無論是否具有自有泵支持

• 需要較高吸氣能力、高靈敏度和清潔測試條件的應用

• 在現(xiàn)有工具中安裝前對部件執(zhí)行檢漏

• 工藝氣體系統(tǒng)的檢查和安裝

• 內(nèi)置軟件菜單“自動測漏"功能可使用 TC1000 測試盒執(zhí)行密封組件的自動測試